राउल्ट का नियम वाष्प दबाव कैलकुलेटर समाधान रसायन विज्ञान के लिए

राउल्ट के नियम का उपयोग करके समाधान के वाष्प दबाव की गणना करें, सॉल्वेंट के मोल अंश और शुद्ध सॉल्वेंट के वाष्प दबाव को दर्ज करके। रसायन विज्ञान, रासायनिक इंजीनियरिंग और थर्मोडायनामिक्स अनुप्रयोगों के लिए आवश्यक।

राउट का नियम कैलकुलेटर

सूत्र

Psolution = Xsolvent × P°solvent

0 और 1 के बीच एक मान दर्ज करें

एक सकारात्मक मान दर्ज करें

सॉल्यूशन का वाष्प दबाव (P)

50.0000 kPa

वाष्प दबाव बनाम मोल अंश

ग्राफ दिखाता है कि राउट के नियम के अनुसार वाष्प दबाव मोल अंश के साथ कैसे बदलता है

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दस्तावेज़ीकरण

राउल्ट का नियम वाष्प दबाव कैलकुलेटर

परिचय

राउल्ट का नियम कैलकुलेटर रसायनज्ञों, रासायनिक इंजीनियरों और छात्रों के लिए एक आवश्यक उपकरण है जो समाधान और वाष्प दबाव के साथ काम कर रहे हैं। यह कैलकुलेटर राउल्ट के नियम को लागू करता है, जो भौतिक रसायन में एक मौलिक सिद्धांत है जो समाधान के वाष्प दबाव और इसके घटकों के मोल अंश के बीच संबंध का वर्णन करता है। राउल्ट के नियम के अनुसार, एक आदर्श समाधान में प्रत्येक घटक का आंशिक वाष्प दबाव शुद्ध घटक के वाष्प दबाव के गुणांक के बराबर होता है, जिसे समाधान में उसके मोल अंश से गुणा किया जाता है। यह सिद्धांत समाधान के व्यवहार, आसवन प्रक्रियाओं और रसायन और रासायनिक इंजीनियरिंग में कई अन्य अनुप्रयोगों को समझने के लिए महत्वपूर्ण है।

वाष्प दबाव वह दबाव है जो एक वाष्प द्वारा एक निश्चित तापमान पर उसके संघनित चरणों के साथ थर्मोडायनामिक संतुलन में लगाया जाता है। जब एक घोल में एक गैर-उड़नशील सॉल्यूट होता है, तो समाधान का वाष्प दबाव शुद्ध सॉल्वेंट की तुलना में कम हो जाता है। राउल्ट का नियम इस वाष्प दबाव में कमी की गणना करने के लिए एक सरल गणितीय संबंध प्रदान करता है, जिससे यह समाधान रसायन में एक अनिवार्य अवधारणा बन जाती है।

हमारा राउल्ट का नियम वाष्प दबाव कैलकुलेटर आपको केवल सॉल्वेंट के मोल अंश और शुद्ध सॉल्वेंट के वाष्प दबाव को दर्ज करके समाधान के वाष्प दबाव को तेजी से और सटीकता से निर्धारित करने की अनुमति देता है। चाहे आप सहसंख्यात्मक गुणों के बारे में सीख रहे छात्र हों, समाधान के साथ काम कर रहे शोधकर्ता हों, या आसवन प्रक्रियाओं को डिजाइन कर रहे इंजीनियर हों, यह कैलकुलेटर आपके विशिष्ट आवश्यकताओं के लिए राउल्ट के नियम को लागू करने का एक सीधा तरीका प्रदान करता है।

राउल्ट का नियम सूत्र और गणना

राउल्ट का नियम निम्नलिखित समीकरण द्वारा व्यक्त किया गया है:

Psolution=Xsolvent×PsolventP_{solution} = X_{solvent} \times P^{\circ}_{solvent}

जहाँ:

  • PsolutionP_{solution} समाधान का वाष्प दबाव है (आमतौर पर kPa, mmHg, या atm में मापा जाता है)
  • XsolventX_{solvent} समाधान में सॉल्वेंट का मोल अंश है (आयामहीन, 0 से 1 के बीच)
  • PsolventP^{\circ}_{solvent} उसी तापमान पर शुद्ध सॉल्वेंट का वाष्प दबाव है (समान दबाव इकाइयों में)

मोल अंश (XsolventX_{solvent}) की गणना इस प्रकार की जाती है:

Xsolvent=nsolventnsolvent+nsoluteX_{solvent} = \frac{n_{solvent}}{n_{solvent} + n_{solute}}

जहाँ:

  • nsolventn_{solvent} सॉल्वेंट के मोलों की संख्या है
  • nsoluten_{solute} सॉल्यूट के मोलों की संख्या है

चर को समझना

  1. सॉल्वेंट का मोल अंश (XsolventX_{solvent}):

    • यह एक आयामहीन मात्रा है जो समाधान में सॉल्वेंट अणुओं के अनुपात का प्रतिनिधित्व करती है।
    • यह 0 (शुद्ध सॉल्यूट) से 1 (शुद्ध सॉल्वेंट) के बीच होती है।
    • एक समाधान में सभी मोल अंशों का योग 1 के बराबर होता है।
  2. शुद्ध सॉल्वेंट का वाष्प दबाव (PsolventP^{\circ}_{solvent}):

    • यह एक विशिष्ट तापमान पर शुद्ध सॉल्वेंट का वाष्प दबाव है।
    • यह सॉल्वेंट की एक अंतर्निहित विशेषता है जो तापमान पर निर्भर करती है।
    • सामान्य इकाइयाँ किलोपास्कल (kPa), मिलीमीटर पारा (mmHg), वायुमंडल (atm), या टॉर हैं।
  3. समाधान का वाष्प दबाव (PsolutionP_{solution}):

    • यह समाधान का परिणामस्वरूप वाष्प दबाव है।
    • यह हमेशा शुद्ध सॉल्वेंट के वाष्प दबाव से कम या उसके बराबर होता है।
    • इसे शुद्ध सॉल्वेंट के वाष्प दबाव के समान इकाइयों में व्यक्त किया जाता है।

किनारे के मामले और सीमाएँ

राउल्ट का नियम कई महत्वपूर्ण किनारे के मामलों और सीमाओं पर विचार करने के लिए है:

  1. जब Xsolvent=1X_{solvent} = 1 (शुद्ध सॉल्वेंट):

    • समाधान का वाष्प दबाव शुद्ध सॉल्वेंट के वाष्प दबाव के बराबर होता है: Psolution=PsolventP_{solution} = P^{\circ}_{solvent}
    • यह समाधान के वाष्प दबाव की ऊपरी सीमा का प्रतिनिधित्व करता है।
  2. जब Xsolvent=0X_{solvent} = 0 (कोई सॉल्वेंट नहीं):

    • समाधान का वाष्प दबाव शून्य हो जाता है: Psolution=0P_{solution} = 0
    • यह एक सैद्धांतिक सीमा है, क्योंकि एक समाधान में कुछ सॉल्वेंट होना चाहिए।
  3. आदर्श बनाम गैर-आदर्श समाधान:

    • राउल्ट का नियम सख्ती से आदर्श समाधानों पर लागू होता है।
    • वास्तविक समाधान अक्सर आणविक अंतःक्रियाओं के कारण राउल्ट के नियम से भटकते हैं।
    • सकारात्मक भटकाव तब होता है जब समाधान का वाष्प दबाव अनुमानित से अधिक होता है (जो कमजोर सॉल्यूट-सॉल्वेंट अंतःक्रियाओं को इंगित करता है)।
    • नकारात्मक भटकाव तब होता है जब समाधान का वाष्प दबाव अनुमानित से कम होता है (जो मजबूत सॉल्यूट-सॉल्वेंट अंतःक्रियाओं को इंगित करता है)।
  4. तापमान पर निर्भरता:

    • शुद्ध सॉल्वेंट का वाष्प दबाव तापमान के साथ महत्वपूर्ण रूप से भिन्न होता है।
    • राउल्ट के नियम की गणनाएँ एक विशिष्ट तापमान पर मान्य होती हैं।
    • विभिन्न तापमानों के लिए वाष्प दबाव को समायोजित करने के लिए क्लॉज़ियस-क्लैपेयरन समीकरण का उपयोग किया जा सकता है।
  5. गैर-उड़नशील सॉल्यूट का अनुमान:

    • राउल्ट के नियम का मूल रूप मानता है कि सॉल्यूट गैर-उड़नशील है।
    • कई उड़नशील घटकों वाले समाधानों के लिए, राउल्ट के नियम का एक संशोधित रूप उपयोग करना होगा।

राउल्ट का नियम कैलकुलेटर का उपयोग कैसे करें

हमारा राउल्ट का नियम वाष्प दबाव कैलकुलेटर सहज और उपयोग में आसान है। अपने समाधान के वाष्प दबाव की गणना करने के लिए इन सरल चरणों का पालन करें:

  1. सॉल्वेंट का मोल अंश दर्ज करें:

    • "सॉल्वेंट का मोल अंश (X)" फ़ील्ड में 0 और 1 के बीच एक मान दर्ज करें।
    • यह आपके समाधान में सॉल्वेंट अणुओं के अनुपात का प्रतिनिधित्व करता है।
    • उदाहरण के लिए, 0.8 का मान यह दर्शाता है कि समाधान में 80% अणु सॉल्वेंट अणु हैं।
  2. शुद्ध सॉल्वेंट का वाष्प दबाव दर्ज करें:

    • "शुद्ध सॉल्वेंट का वाष्प दबाव (P°)" फ़ील्ड में शुद्ध सॉल्वेंट का वाष्प दबाव दर्ज करें।
    • सुनिश्चित करें कि इकाइयाँ नोट की गई हैं (कैलकुलेटर डिफ़ॉल्ट रूप से kPa का उपयोग करता है)।
    • यह मान तापमान पर निर्भर करता है, इसलिए सुनिश्चित करें कि आप अपने इच्छित तापमान पर वाष्प दबाव का उपयोग कर रहे हैं।
  3. परिणाम देखें:

    • कैलकुलेटर स्वचालित रूप से राउल्ट के नियम का उपयोग करके समाधान के वाष्प दबाव की गणना करेगा।
    • परिणाम "समाधान वाष्प दबाव (P)" फ़ील्ड में आपके इनपुट के समान इकाइयों में प्रदर्शित होता है।
    • आप परिणाम को कॉपी आइकन पर क्लिक करके अपने क्लिपबोर्ड में कॉपी कर सकते हैं।
  4. संबंध को दृश्य रूप से प्रदर्शित करें:

    • कैलकुलेटर में एक ग्राफ शामिल है जो मोल अंश और वाष्प दबाव के बीच रैखिक संबंध को दिखाता है।
    • आपके विशिष्ट गणना को ग्राफ पर उजागर किया गया है ताकि बेहतर समझ हो सके।
    • यह दृश्यता दिखाने में मदद करती है कि वाष्प दबाव विभिन्न मोल अंशों के साथ कैसे बदलता है।

इनपुट मान्यता

कैलकुलेटर आपके इनपुट पर निम्नलिखित मान्यता जांच करता है:

  • मोल अंश मान्यता:

    • यह एक मान्य संख्या होनी चाहिए।
    • इसे 0 और 1 (समावेशी) के बीच होना चाहिए।
    • इस रेंज से बाहर के मान एक त्रुटि संदेश को सक्रिय करेंगे।
  • वाष्प दबाव मान्यता:

    • यह एक मान्य सकारात्मक संख्या होनी चाहिए।
    • नकारात्मक मान एक त्रुटि संदेश को सक्रिय करेंगे।
    • शून्य की अनुमति है लेकिन अधिकांश संदर्भों में यह भौतिक रूप से अर्थपूर्ण नहीं हो सकता है।

यदि कोई मान्यता त्रुटियाँ होती हैं, तो कैलकुलेटर उपयुक्त त्रुटि संदेश प्रदर्शित करेगा और तब तक गणना नहीं करेगा जब तक मान्य इनपुट प्रदान नहीं किए जाते।

व्यावहारिक उदाहरण

राउल्ट के नियम कैलकुलेटर का उपयोग करने के लिए कुछ व्यावहारिक उदाहरणों पर चलें:

उदाहरण 1: चीनी का जल समाधान

मान लीजिए कि आपके पास 25°C पर पानी में चीनी (सुक्रोज) का एक समाधान है। पानी का मोल अंश 0.9 है, और 25°C पर शुद्ध पानी का वाष्प दबाव 3.17 kPa है।

इनपुट:

  • सॉल्वेंट का मोल अंश (पानी): 0.9
  • शुद्ध सॉल्वेंट का वाष्प दबाव: 3.17 kPa

गणना: Psolution=Xsolvent×Psolvent=0.9×3.17 kPa=2.853 kPaP_{solution} = X_{solvent} \times P^{\circ}_{solvent} = 0.9 \times 3.17 \text{ kPa} = 2.853 \text{ kPa}

परिणाम: चीनी समाधान का वाष्प दबाव 2.853 kPa है।

उदाहरण 2: इथेनॉल-पानी मिश्रण

एक इथेनॉल और पानी के मिश्रण पर विचार करें जहाँ इथेनॉल का मोल अंश 0.6 है। 20°C पर शुद्ध इथेनॉल का वाष्प दबाव 5.95 kPa है।

इनपुट:

  • सॉल्वेंट का मोल अंश (इथेनॉल): 0.6
  • शुद्ध सॉल्वेंट का वाष्प दबाव: 5.95 kPa

गणना: Psolution=Xsolvent×Psolvent=0.6×5.95 kPa=3.57 kPaP_{solution} = X_{solvent} \times P^{\circ}_{solvent} = 0.6 \times 5.95 \text{ kPa} = 3.57 \text{ kPa}

परिणाम: मिश्रण में इथेनॉल का वाष्प दबाव 3.57 kPa है।

उदाहरण 3: बहुत पतला समाधान

एक बहुत पतले समाधान के लिए जहाँ सॉल्वेंट का मोल अंश 0.99 है, और शुद्ध सॉल्वेंट का वाष्प दबाव 100 kPa है:

इनपुट:

  • सॉल्वेंट का मोल अंश: 0.99
  • शुद्ध सॉल्वेंट का वाष्प दबाव: 100 kPa

गणना: Psolution=Xsolvent×Psolvent=0.99×100 kPa=99 kPaP_{solution} = X_{solvent} \times P^{\circ}_{solvent} = 0.99 \times 100 \text{ kPa} = 99 \text{ kPa}

परिणाम: समाधान का वाष्प दबाव 99 kPa है, जो अपेक्षित रूप से शुद्ध सॉल्वेंट के वाष्प दबाव के बहुत करीब है।

राउल्ट के नियम के उपयोग के मामले

राउल्ट का नियम रसायन, रासायनिक इंजीनियरिंग और संबंधित क्षेत्रों में कई अनुप्रयोगों के लिए है:

1. आसवन प्रक्रियाएँ

आसवन राउल्ट के नियम के सबसे सामान्य अनुप्रयोगों में से एक है। जब वाष्प दबाव के साथ संघटन में परिवर्तन को समझते हुए, इंजीनियर आसवन कॉलम को कुशलता से डिजाइन कर सकते हैं:

  • पेट्रोलियम परिष्करण में कच्चे तेल को विभिन्न अंशों में अलग करने के लिए
  • शराब के उत्पादन में
  • रसायनों और सॉल्वेंट्स की शुद्धता में
  • समुद्री जल का मीठा करने में

2. फार्मास्युटिकल फॉर्मुलेशन

फार्मास्यूटिकल विज्ञान में, राउल्ट का नियम मदद करता है:

  • विभिन्न सॉल्वेंट्स में दवा की घुलनशीलता की भविष्यवाणी करने में
  • तरल फॉर्मुलेशन की स्थिरता को समझने में
  • नियंत्रित-रिलीज़ तंत्र विकसित करने में
  • सक्रिय तत्वों के लिए निष्कर्षण प्रक्रियाओं को अनुकूलित करने में

3. पर्यावरण विज्ञान

पर्यावरण वैज्ञानिक राउल्ट के नियम का उपयोग करते हैं:

  • जल निकायों से प्रदूषकों के वाष्पीकरण का मॉडल बनाने में
  • वाष्पशील कार्बनिक यौगिकों (VOCs) के भाग्य और परिवहन की भविष्यवाणी करने में
  • रसायनों के बीच वायु और पानी के बीच विभाजन को समझने में
  • प्रदूषित स्थलों के लिए सुधार रणनीतियों को विकसित करने में

4. रासायनिक निर्माण

रासायनिक निर्माण में, राउल्ट का नियम महत्वपूर्ण है:

  • तरल मिश्रणों में प्रतिक्रिया प्रणालियों को डिजाइन करने में
  • सॉल्वेंट पुनर्प्राप्ति प्रक्रियाओं को अनुकूलित करने में
  • क्रिस्टलीकरण संचालन में उत्पाद की शुद्धता की भविष्यवाणी करने में
  • निष्कर्षण और लीकिंग प्रक्रियाओं को विकसित करने में

5. शैक्षणिक अनुसंधान

शोधकर्ता राउल्ट के नियम का उपयोग करते हैं:

  • समाधानों के थर्मोडायनामिक गुणों का अध्ययन करने में
  • तरल मिश्रणों में आणविक अंतःक्रियाओं की जांच करने में
  • नई पृथक्करण तकनीकों को विकसित करने में
  • भौतिक रसायन के मौलिक सिद्धांतों को पढ़ाने में

राउल्ट के नियम के विकल्प

जबकि राउल्ट का नियम आदर्श समाधानों के लिए एक मौलिक सिद्धांत है, कई विकल्प और संशोधन गैर-आदर्श प्रणालियों के लिए मौजूद हैं:

1. हेनरी का नियम

बहुत पतले समाधानों के लिए, हेनरी का नियम अक्सर अधिक उपयुक्त होता है:

Pi=kH×XiP_i = k_H \times X_i

जहाँ:

  • PiP_i सॉल्यूट का आंशिक दबाव है
  • kHk_H हेनरी का स्थिरांक (सॉल्यूट-सॉल्वेंट जोड़ी के लिए विशिष्ट)
  • XiX_i सॉल्यूट का मोल अंश है

हेनरी का नियम विशेष रूप से तरल में घुले गैसों और बहुत पतले समाधानों के लिए उपयोगी है जहाँ सॉल्यूट-सॉल्यूट अंतःक्रियाएँ नगण्य होती हैं।

2. गतिविधि गुणांक मॉडल

गैर-आदर्श समाधानों के लिए, गतिविधि गुणांक (γ\gamma) को भटकावों को ध्यान में रखने के लिए पेश किया जाता है:

Pi=γi×Xi×PiP_i = \gamma_i \times X_i \times P^{\circ}_i

सामान्य गतिविधि गुणांक मॉडल में शामिल हैं:

  • मार्गुलस समीकरण (द्विआधारी मिश्रणों के लिए)
  • वान लार समीकरण
  • विल्सन समीकरण
  • एनआरटीएल (गैर-यादृच्छिक दो-तरल) मॉडल
  • यूनिक्वैक (यूनिवर्सल क्वासी-केमिकल) मॉडल

3. राज्य समीकरण मॉडल

जटिल मिश्रणों के लिए, विशेष रूप से उच्च दबाव पर, राज्य समीकरण मॉडल का उपयोग किया जाता है:

  • पेंग-रॉबिन्सन समीकरण
  • सोवे-रेड्लिच-क्वोंग समीकरण
  • SAFT (सांख्यिकीय संघनन तरल सिद्धांत) मॉडल

ये मॉडल तरल व्यवहार का अधिक व्यापक वर्णन प्रदान करते हैं लेकिन अधिक पैरामीटर और कम्प्यूटेशनल संसाधनों की आवश्यकता होती है।

राउल्ट के नियम का इतिहास

राउल्ट का नियम फ्रांसीसी रसायनज्ञ फ्रैंकोइस-मैरी राउल्ट (1830-1901) के नाम पर रखा गया है, जिन्होंने 1887 में वाष्प दबाव में कमी के बारे में अपने निष्कर्ष प्रकाशित किए। राउल्ट ग्रेनोबल विश्वविद्यालय में रसायन विज्ञान के प्रोफेसर थे, जहाँ उन्होंने समाधानों के भौतिक गुणों पर व्यापक शोध किया।

फ्रैंकोइस-मैरी राउल्ट के योगदान

राउल्ट का प्रयोगात्मक कार्य गैर-उड़नशील सॉल्यूट वाले समाधानों के वाष्प दबाव को मापने में शामिल था। विस्तृत प्रयोगों के माध्यम से, उन्होंने देखा कि वाष्प दबाव में सापेक्ष कमी सॉल्यूट के मोल अंश के समानुपाती होती है। इस अवलोकन ने राउल्ट के नियम के रूप में जो हम अब जानते हैं, के निर्माण की ओर अग्रसर किया।

उनका शोध कई पत्रों में प्रकाशित हुआ, जिसमें सबसे महत्वपूर्ण "लॉइ जनरल डेस टेंशन्स डे वाष्प डेस डिसोल्वेंट्स" (सॉल्वेंट्स के वाष्प दबावों के सामान्य कानून) 1887 में कॉम्प्टेस रेंडस डी ल'अकादमी डेस साइंसेस में था।

विकास और महत्व

राउल्ट का नियम सहसंख्यात्मक गुणों के अध्ययन में एक मौलिक सिद्धांत बन गया—ऐसे गुण जो कणों की सांद्रता पर निर्भर करते हैं न कि उनकी पहचान पर। उष्मागतिकी के विकास के साथ, राउल्ट का नियम और भी महत्वपूर्ण हो गया। जे. विलार्ड गिब्स और अन्य लोगों ने राउल्ट के नियम को एक अधिक व्यापक थर्मोडायनामिक ढांचे में शामिल किया, जिससे रासायनिक संभाव्यता और आंशिक मोलर मात्राओं के साथ इसके संबंध की स्थापना हुई।

20वीं सदी में, जैसे-जैसे आणविक अंतःक्रियाओं की समझ में सुधार हुआ, वैज्ञानिकों ने गैर-आदर्श समाधानों के लिए राउल्ट के नियम की सीमाओं को पहचानना शुरू किया। इससे अधिक जटिल मॉडलों के विकास की दिशा में अग्रसर हुआ जो आदर्शता से भटकाव को ध्यान में रखते हैं, जिससे समाधान के व्यवहार की हमारी समझ का विस्तार होता है।

आज, राउल्ट का नियम भौतिक रसायन शिक्षा का एक कोना बना हुआ है और कई औद्योगिक अनुप्रयोगों में एक व्यावहारिक उपकरण है। इसकी सरलता इसे समाधान के व्यवहार को समझने के लिए एक उत्कृष्ट प्रारंभिक बिंदु बनाती है, भले ही अधिक जटिल मॉडल गैर-आदर्श प्रणालियों के लिए उपयोग किए जाएँ।

राउल्ट के नियम की गणनाओं के लिए कोड उदाहरण

यहाँ विभिन्न प्रोग्रामिंग भाषाओं में राउल्ट के नियम की गणनाओं को लागू करने के उदाहरण दिए गए हैं:

1' Excel सूत्र राउल्ट के नियम की गणना के लिए
2' सेल A1 में: सॉल्वेंट का मोल अंश
3' सेल A2 में: शुद्ध सॉल्वेंट का वाष्प दबाव (kPa)
4' सेल A3 में: =A1*A2 (समाधान का वाष्प दबाव)
5
6' Excel VBA फ़ंक्शन
7Function RaoultsLaw(moleFraction As Double, pureVaporPressure As Double) As Double
8    ' इनपुट मान्यता
9    If moleFraction < 0 Or moleFraction > 1 Then
10        RaoultsLaw = CVErr(xlErrValue)
11        Exit Function
12    End If
13    
14    If pureVaporPressure < 0 Then
15        RaoultsLaw = CVErr(xlErrValue)
16        Exit Function
17    End If
18    
19    ' समाधान का वाष्प दबाव की गणना करें
20    RaoultsLaw = moleFraction * pureVaporPressure
21End Function
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अक्सर पूछे जाने वाले प्रश्न (FAQ)

राउल्ट का नियम क्या है?

राउल्ट का नियम कहता है कि एक समाधान का वाष्प दबाव शुद्ध सॉल्वेंट के वाष्प दबाव के गुणांक के बराबर होता है, जिसे समाधान में सॉल्वेंट के मोल अंश से गुणा किया जाता है। इसे गणितीय रूप से P = X × P° के रूप में व्यक्त किया जाता है, जहाँ P समाधान का वाष्प दबाव है, X सॉल्वेंट का मोल अंश है, और P° शुद्ध सॉल्वेंट का वाष्प दबाव है।

राउल्ट का नियम कब लागू होता है?

राउल्ट का नियम सबसे सटीक रूप से आदर्श समाधानों पर लागू होता है, जहाँ सॉल्वेंट और सॉल्यूट अणुओं के बीच आणविक अंतःक्रियाएँ सॉल्वेंट अणुओं के बीच की तुलना में समान होती हैं। यह रासायनिक रूप से समान घटकों, निम्न सांद्रता, और मध्यम तापमान और दबाव पर सबसे अच्छा काम करता है।

राउल्ट के नियम की सीमाएँ क्या हैं?

मुख्य सीमाएँ शामिल हैं: (1) यह सख्ती से आदर्श समाधानों पर लागू होता है, (2) वास्तविक समाधान अक्सर आणविक अंतःक्रियाओं के कारण भटकाव दिखाते हैं, (3) यह मानता है कि सॉल्यूट गैर-उड़नशील है, (4) यह आणविक अंतःक्रियाओं पर तापमान के प्रभाव को ध्यान में नहीं रखता है, और (5) यह उच्च दबाव या समीपवर्ती महत्वपूर्ण बिंदुओं पर टूट जाता है।

राउल्ट के नियम से सकारात्मक भटकाव क्या है?

सकारात्मक भटकाव तब होता है जब समाधान का वाष्प दबाव अनुमानित से अधिक होता है। यह तब होता है जब सॉल्वेंट-सॉल्यूट अंतःक्रियाएँ सॉल्वेंट-सॉल्वेंट अंतःक्रियाओं की तुलना में कमजोर होती हैं, जिससे अधिक अणु वाष्प चरण में भाग सकते हैं। उदाहरणों में इथेनॉल-पानी मिश्रण और बेंजीन-मेथनॉल समाधान शामिल हैं।

राउल्ट के नियम से नकारात्मक भटकाव क्या है?

नकारात्मक भटकाव तब होता है जब समाधान का वाष्प दबाव अनुमानित से कम होता है। यह तब होता है जब सॉल्वेंट-सॉल्यूट अंतःक्रियाएँ सॉल्वेंट-सॉल्वेंट अंतःक्रियाओं की तुलना में मजबूत होती हैं, जिससे वाष्प चरण में भाग लेने वाले अणुओं की संख्या कम हो जाती है। उदाहरणों में क्लोरोफॉर्म-एसीटोन और हाइड्रोक्लोरिक एसिड-पानी समाधान शामिल हैं।

तापमान राउल्ट के नियम की गणनाओं को कैसे प्रभावित करता है?

तापमान सीधे शुद्ध सॉल्वेंट के वाष्प दबाव (P°) को प्रभावित करता है लेकिन स्वयं राउल्ट के नियम द्वारा वर्णित संबंध को नहीं। जैसे-जैसे तापमान बढ़ता है, शुद्ध सॉल्वेंट का वाष्प दबाव क्लॉज़ियस-क्लैपेयरन समीकरण के अनुसार तेजी से बढ़ता है, जो समाधान के वाष्प दबाव को आनुपातिक रूप से बढ़ाता है।

क्या राउल्ट का नियम कई उड़नशील घटकों वाले मिश्रणों के लिए उपयोग किया जा सकता है?

हाँ, लेकिन एक संशोधित रूप में। जब कई घटक उड़नशील होते हैं, तो प्रत्येक घटक कुल वाष्प दबाव में राउल्ट के नियम के अनुसार योगदान देता है। कुल वाष्प दबाव इन आंशिक दबावों का योग है: P_total = Σ(X_i × P°_i), जहाँ i प्रत्येक उड़नशील घटक का प्रतिनिधित्व करता है।

राउल्ट के नियम का उबाल बिंदु वृद्धि से क्या संबंध है?

राउल्ट का नियम उबाल बिंदु वृद्धि, एक सहसंख्यात्मक गुण, को समझाने में मदद करता है। जब एक गैर-उड़नशील सॉल्यूट सॉल्वेंट में जोड़ा जाता है, तो वाष्प दबाव राउल्ट के नियम के अनुसार कम हो जाता है। चूंकि उबाल तब होता है जब वाष्प दबाव वायुमंडलीय दबाव के बराबर होता है, इसलिए इस बिंदु तक पहुँचने के लिए उच्च तापमान की आवश्यकता होती है, जिससे उबाल बिंदु बढ़ता है।

राउल्ट के नियम की गणनाओं में विभिन्न दबाव इकाइयों के बीच कैसे परिवर्तित किया जाए?

सामान्य दबाव इकाई परिवर्तनों में शामिल हैं:

  • 1 atm = 101.325 kPa = 760 mmHg = 760 torr
  • 1 kPa = 0.00987 atm = 7.5006 mmHg
  • 1 mmHg = 1 torr = 0.00132 atm = 0.13332 kPa सुनिश्चित करें कि शुद्ध सॉल्वेंट का वाष्प दबाव और समाधान का वाष्प दबाव समान इकाइयों में व्यक्त किया गया है।

राउल्ट के नियम का आसवन प्रक्रियाओं में कैसे उपयोग किया जाता है?

आसवन में, राउल्ट का नियम वाष्प के एक तरल मिश्रण के ऊपर के संघटन की भविष्यवाणी करने में मदद करता है। उच्च वाष्प दबाव वाले घटक वाष्प चरण में तरल चरण की तुलना में उच्च सांद्रता में होंगे। यह वाष्प-तरल संघटन में यह भिन्नता है जो आसवन कॉलम में कई वाष्पीकरण-संघनन चक्रों के माध्यम से पृथक्करण को संभव बनाती है।

संदर्भ

  1. एटकिंस, पी. डब्ल्यू., & डी पाउला, जे. (2014). एटकिंस' फिजिकल केमिस्ट्री (10वां संस्करण)। ऑक्सफोर्ड यूनिवर्सिटी प्रेस।

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  3. स्मिथ, जे. एम., वैन नेस, एच. सी., & एबॉट, एम. एम. (2017). इंट्रोडक्शन टू केमिकल इंजीनियरिंग थर्मोडायनामिक्स (8वां संस्करण)। मैकग्रा-हिल शिक्षा।

  4. प्रॉज़निट्ज, जे. एम., लिचेंथेलर, आर. एन., & डी अज़ेवेडो, ई. जी. (1998). मॉलिक्युलर थर्मोडायनामिक्स ऑफ फ्लुइड-फेज इक्विलिब्रिया (3वां संस्करण)। प्रेंटिस हॉल।

  5. राउल्ट, एफ. एम. (1887). "लॉइ जनरल डेस टेंशन्स डे वाष्प डेस डिसोल्वेंट्स" [सॉल्वेंट्स के वाष्प दबावों का सामान्य कानून]। कॉम्प्टेस रेंडस डी ल'अकादमी डेस साइंसेस, 104, 1430–1433।

  6. सैंडलर, एस. आई. (2017). केमिकल, बायोकैमिकल, एंड इंजीनियरिंग थर्मोडायनामिक्स (5वां संस्करण)। जॉन विली एंड संस।

  7. "राउल्ट का नियम।" विकिपीडिया, विकिमीडिया फाउंडेशन, https://en.wikipedia.org/wiki/Raoult%27s_law. 25 जुलाई 2025 को एक्सेस किया गया।

  8. "वाष्प दबाव।" केमिस्ट्री लिबरटेक्स, https://chem.libretexts.org/Bookshelves/Physical_and_Theoretical_Chemistry_Textbook_Maps/Supplemental_Modules_(Physical_and_Theoretical_Chemistry)/Physical_Properties_of_Matter/States_of_Matter/Phase_Transitions/Vapor_Pressure. 25 जुलाई 2025 को एक्सेस किया गया।

  9. "सहसंख्यात्मक गुण।" खान अकादमी, https://www.khanacademy.org/science/chemistry/states-of-matter-and-intermolecular-forces/mixtures-and-solutions/v/colligative-properties. 25 जुलाई 2025 को एक्सेस किया गया।

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