राउल्ट का नियम वाष्प दबाव कैलकुलेटर समाधान रसायन विज्ञान के लिए

सॉल्वेंट के मोल अंश और शुद्ध सॉल्वेंट वाष्प दबाव दर्ज करके राउल्ट के नियम का उपयोग करके समाधानों का वाष्प दबाव गणना करें। रसायन विज्ञान, रासायनिक इंजीनियरिंग और थर्मोडायनामिक्स अनुप्रयोगों के लिए आवश्यक।

राउल्ट का नियम कैलकुलेटर

सूत्र

Psolution = Xsolvent × P°solvent

0 और 1 के बीच एक मान दर्ज करें

एक सकारात्मक मान दर्ज करें

सॉल्यूशन वाष्प दबाव (P)

50.0000 kPa

वाष्प दबाव बनाम मोल अंश

ग्राफ दिखाता है कि राउल्ट के नियम के अनुसार मोल अंश के साथ वाष्प दबाव कैसे बदलता है

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दस्तावेज़ीकरण

राउल्ट का नियम वाष्प दबाव कैलकुलेटर

हमारे राउल्ट के नियम कैलकुलेटर का उपयोग करके तुरंत समाधान वाष्प दबाव की गणना करें। सटीक परिणाम प्राप्त करने के लिए मोल अंश और शुद्ध सॉल्वेंट वाष्प दबाव दर्ज करें, जो रसायन विज्ञान, आसवन और समाधान विश्लेषण के लिए उपयोगी है।

राउल्ट का नियम क्या है?

राउल्ट का नियम भौतिक रसायन विज्ञान में एक मौलिक सिद्धांत है जो यह वर्णन करता है कि एक समाधान का वाष्प दबाव इसके घटकों के मोल अंश से कैसे संबंधित होता है। यह वाष्प दबाव कैलकुलेटर राउल्ट के नियम को लागू करके समाधान वाष्प दबाव को तेजी से और सटीकता से निर्धारित करता है।

राउल्ट के नियम के अनुसार, एक आदर्श समाधान में प्रत्येक घटक का आंशिक वाष्प दबाव शुद्ध घटक के वाष्प दबाव के मोल अंश से गुणा करने के बराबर होता है। यह सिद्धांत समाधान के व्यवहार, आसवन प्रक्रियाओं, और रसायन विज्ञान और रासायनिक इंजीनियरिंग में सहसंवेदन गुणों को समझने के लिए आवश्यक है।

जब एक सॉल्वेंट में एक गैर-वाष्पशील सॉल्यूट होता है, तो वाष्प दबाव शुद्ध सॉल्वेंट की तुलना में कम हो जाता है। हमारा राउल्ट का नियम कैलकुलेटर इस कमी की गणना करने के लिए गणितीय संबंध प्रदान करता है, जिससे यह समाधान रसायन विज्ञान अनुप्रयोगों के लिए अनिवार्य हो जाता है।

राउल्ट का नियम सूत्र और गणना

राउल्ट का नियम निम्नलिखित समीकरण द्वारा व्यक्त किया जाता है:

Psolution=Xsolvent×PsolventP_{solution} = X_{solvent} \times P^{\circ}_{solvent}

जहाँ:

  • PsolutionP_{solution} समाधान का वाष्प दबाव है (आमतौर पर kPa, mmHg, या atm में मापा जाता है)
  • XsolventX_{solvent} समाधान में सॉल्वेंट का मोल अंश है (आयामहीन, 0 से 1 के बीच)
  • PsolventP^{\circ}_{solvent} समान तापमान पर शुद्ध सॉल्वेंट का वाष्प दबाव है (समान दबाव इकाइयों में)

मोल अंश (XsolventX_{solvent}) की गणना इस प्रकार की जाती है:

Xsolvent=nsolventnsolvent+nsoluteX_{solvent} = \frac{n_{solvent}}{n_{solvent} + n_{solute}}

जहाँ:

  • nsolventn_{solvent} सॉल्वेंट के मोलों की संख्या है
  • nsoluten_{solute} सॉल्यूट के मोलों की संख्या है

चर को समझना

  1. सॉल्वेंट का मोल अंश (XsolventX_{solvent}):

    • यह एक आयामहीन मात्रा है जो समाधान में सॉल्वेंट अणुओं के अनुपात का प्रतिनिधित्व करती है।
    • यह 0 (शुद्ध सॉल्यूट) से 1 (शुद्ध सॉल्वेंट) के बीच होता है।
    • समाधान में सभी मोल अंशों का योग 1 के बराबर होता है।
  2. शुद्ध सॉल्वेंट वाष्प दबाव (PsolventP^{\circ}_{solvent}):

    • यह एक विशिष्ट तापमान पर शुद्ध सॉल्वेंट का वाष्प दबाव है।
    • यह सॉल्वेंट की एक अंतर्निहित विशेषता है जो तापमान पर बहुत निर्भर करती है।
    • सामान्य इकाइयों में किलोपास्कल (kPa), पारा के मिलीमीटर (mmHg), वायुमंडल (atm), या टॉर शामिल हैं।
  3. समाधान वाष्प दबाव (PsolutionP_{solution}):

    • यह समाधान का परिणामी वाष्प दबाव है।
    • यह हमेशा शुद्ध सॉल्वेंट के वाष्प दबाव से कम या उसके बराबर होता है।
    • इसे शुद्ध सॉल्वेंट वाष्प दबाव की समान इकाइयों में व्यक्त किया जाता है।

किनारे के मामले और सीमाएँ

राउल्ट का नियम कई महत्वपूर्ण किनारे के मामलों और सीमाओं पर विचार करने के लिए है:

  1. जब Xsolvent=1X_{solvent} = 1 (शुद्ध सॉल्वेंट):

    • समाधान का वाष्प दबाव शुद्ध सॉल्वेंट के वाष्प दबाव के बराबर होता है: Psolution=PsolventP_{solution} = P^{\circ}_{solvent}
    • यह समाधान के वाष्प दबाव की ऊपरी सीमा का प्रतिनिधित्व करता है।
  2. जब Xsolvent=0X_{solvent} = 0 (कोई सॉल्वेंट नहीं):

    • समाधान का वाष्प दबाव शून्य हो जाता है: Psolution=0P_{solution} = 0
    • यह एक सैद्धांतिक सीमा है, क्योंकि एक समाधान में कुछ सॉल्वेंट होना चाहिए।
  3. आदर्श बनाम गैर-आदर्श समाधान:

    • राउल्ट का नियम केवल आदर्श समाधानों पर सख्ती से लागू होता है।
    • वास्तविक समाधान अक्सर आणविक इंटरैक्शन के कारण राउल्ट के नियम से भटकते हैं।
    • सकारात्मक भटकाव तब होता है जब समाधान का वाष्प दबाव अनुमानित से अधिक होता है (जो कमजोर सॉल्यूट-सॉल्वेंट इंटरैक्शन को इंगित करता है)।
    • नकारात्मक भटकाव तब होता है जब समाधान का वाष्प दबाव अनुमानित से कम होता है (जो मजबूत सॉल्यूट-सॉल्वेंट इंटरैक्शन को इंगित करता है)।
  4. तापमान पर निर्भरता:

    • शुद्ध सॉल्वेंट का वाष्प दबाव तापमान के साथ महत्वपूर्ण रूप से भिन्न होता है।
    • राउल्ट के नियम की गणनाएँ एक विशिष्ट तापमान पर मान्य होती हैं।
    • विभिन्न तापमानों के लिए वाष्प दबाव को समायोजित करने के लिए क्लॉज़ियस-क्लेपेरॉन समीकरण का उपयोग किया जा सकता है।
  5. गैर-वाष्पशील सॉल्यूट का अनुमान:

    • राउल्ट के नियम का मूल रूप मानता है कि सॉल्यूट गैर-वाष्पशील है।
    • कई वाष्पशील घटकों वाले समाधानों के लिए, राउल्ट के नियम का एक संशोधित रूप उपयोग किया जाना चाहिए।

वाष्प दबाव कैलकुलेटर का उपयोग कैसे करें

हमारा राउल्ट का नियम वाष्प दबाव कैलकुलेटर त्वरित और सटीक गणनाओं के लिए डिज़ाइन किया गया है। समाधान वाष्प दबाव की गणना करने के लिए इन चरणों का पालन करें:

  1. सॉल्वेंट का मोल अंश दर्ज करें:

    • "सॉल्वेंट का मोल अंश (X)" फ़ील्ड में 0 और 1 के बीच एक मान दर्ज करें।
    • यह आपके समाधान में सॉल्वेंट अणुओं के अनुपात का प्रतिनिधित्व करता है।
    • उदाहरण के लिए, 0.8 का मान यह दर्शाता है कि समाधान में 80% अणु सॉल्वेंट अणु हैं।
  2. शुद्ध सॉल्वेंट वाष्प दबाव दर्ज करें:

    • "शुद्ध सॉल्वेंट वाष्प दबाव (P°)" फ़ील्ड में शुद्ध सॉल्वेंट का वाष्प दबाव दर्ज करें।
    • सुनिश्चित करें कि इकाइयों का ध्यान रखें (कैलकुलेटर डिफ़ॉल्ट रूप से kPa का उपयोग करता है)।
    • यह मान तापमान पर निर्भर करता है, इसलिए सुनिश्चित करें कि आप अपने इच्छित तापमान पर वाष्प दबाव का उपयोग कर रहे हैं।
  3. परिणाम देखें:

    • कैलकुलेटर स्वचालित रूप से राउल्ट के नियम का उपयोग करके समाधान वाष्प दबाव की गणना करेगा।
    • परिणाम "समाधान वाष्प दबाव (P)" फ़ील्ड में आपके इनपुट के समान इकाइयों में प्रदर्शित होता है।
    • आप कॉपी आइकन पर क्लिक करके इस परिणाम को अपने क्लिपबोर्ड पर कॉपी कर सकते हैं।
  4. संबंध को दृश्य रूप में देखें:

    • कैलकुलेटर में मोल अंश और वाष्प दबाव के बीच रैखिक संबंध दिखाने वाला एक ग्राफ शामिल है।
    • आपके विशिष्ट गणना को बेहतर समझ के लिए ग्राफ पर हाइलाइट किया गया है।
    • यह दृश्यता यह दर्शाने में मदद करती है कि विभिन्न मोल अंशों के साथ वाष्प दबाव कैसे बदलता है।

इनपुट मान्यता

कैलकुलेटर आपके इनपुट पर निम्नलिखित मान्यता जांच करता है:

  • मोल अंश मान्यता:

    • यह एक मान्य संख्या होनी चाहिए।
    • यह 0 और 1 (समावेशी) के बीच होना चाहिए।
    • इस सीमा के बाहर के मान एक त्रुटि संदेश को सक्रिय करेंगे।
  • वाष्प दबाव मान्यता:

    • यह एक मान्य सकारात्मक संख्या होनी चाहिए।
    • नकारात्मक मान एक त्रुटि संदेश को सक्रिय करेंगे।
    • शून्य की अनुमति है लेकिन अधिकांश संदर्भों में यह भौतिक रूप से अर्थपूर्ण नहीं हो सकता है।

यदि कोई मान्यता त्रुटियाँ होती हैं, तो कैलकुलेटर उपयुक्त त्रुटि संदेश प्रदर्शित करेगा और मान्य इनपुट प्रदान किए जाने तक गणना नहीं करेगा।

व्यावहारिक उदाहरण

राउल्ट के नियम कैलकुलेटर का उपयोग कैसे करें, यह प्रदर्शित करने के लिए कुछ व्यावहारिक उदाहरणों पर चलें:

उदाहरण 1: चीनी का जल समाधान

मान लीजिए कि आपके पास 25°C पर पानी में चीनी (सुक्रोज) का समाधान है। पानी का मोल अंश 0.9 है, और 25°C पर शुद्ध पानी का वाष्प दबाव 3.17 kPa है।

इनपुट:

  • सॉल्वेंट का मोल अंश (पानी): 0.9
  • शुद्ध सॉल्वेंट वाष्प दबाव: 3.17 kPa

गणना: Psolution=Xsolvent×Psolvent=0.9×3.17 kPa=2.853 kPaP_{solution} = X_{solvent} \times P^{\circ}_{solvent} = 0.9 \times 3.17 \text{ kPa} = 2.853 \text{ kPa}

परिणाम: चीनी समाधान का वाष्प दबाव 2.853 kPa है।

उदाहरण 2: एथेनॉल-पानी मिश्रण

एक एथेनॉल और पानी के मिश्रण पर विचार करें जहाँ एथेनॉल का मोल अंश 0.6 है। 20°C पर शुद्ध एथेनॉल का वाष्प दबाव 5.95 kPa है।

इनपुट:

  • सॉल्वेंट का मोल अंश (एथेनॉल): 0.6
  • शुद्ध सॉल्वेंट वाष्प दबाव: 5.95 kPa

गणना: Psolution=Xsolvent×Psolvent=0.6×5.95 kPa=3.57 kPaP_{solution} = X_{solvent} \times P^{\circ}_{solvent} = 0.6 \times 5.95 \text{ kPa} = 3.57 \text{ kPa}

परिणाम: मिश्रण में एथेनॉल का वाष्प दबाव 3.57 kPa है।

उदाहरण 3: बहुत पतला समाधान

एक बहुत पतले समाधान के लिए जहाँ सॉल्वेंट का मोल अंश 0.99 है, और शुद्ध सॉल्वेंट वाष्प दबाव 100 kPa है:

इनपुट:

  • सॉल्वेंट का मोल अंश: 0.99
  • शुद्ध सॉल्वेंट वाष्प दबाव: 100 kPa

गणना: Psolution=Xsolvent×Psolvent=0.99×100 kPa=99 kPaP_{solution} = X_{solvent} \times P^{\circ}_{solvent} = 0.99 \times 100 \text{ kPa} = 99 \text{ kPa}

परिणाम: समाधान का वाष्प दबाव 99 kPa है, जो अपेक्षित रूप से शुद्ध सॉल्वेंट वाष्प दबाव के बहुत करीब है।

राउल्ट का नियम अनुप्रयोग और उपयोग के मामले

राउल्ट का नियम वाष्प दबाव गणनाओं के रसायन विज्ञान, रासायनिक इंजीनियरिंग, और औद्योगिक प्रक्रियाओं में कई अनुप्रयोग हैं:

1. आसवन प्रक्रियाएँ

आसवन राउल्ट के नियम के सबसे सामान्य अनुप्रयोगों में से एक है। यह समझकर कि वाष्प दबाव संघटन के साथ कैसे बदलता है, इंजीनियर कुशल आसवन कॉलम डिजाइन कर सकते हैं:

  • कच्चे तेल को विभिन्न अंशों में अलग करने के लिए पेट्रोलियम परिष्करण
  • शराब बनाने के लिए
  • रसायनों और सॉल्वेंट्स की शुद्धता
  • समुद्री जल का खारापन

2. औषधीय सूत्रीकरण

औषधीय विज्ञान में, राउल्ट का नियम मदद करता है:

  • विभिन्न सॉल्वेंट्स में दवा की घुलनशीलता की भविष्यवाणी करना
  • तरल सूत्रों की स्थिरता को समझना
  • नियंत्रित-रिलीज़ तंत्र विकसित करना
  • सक्रिय तत्वों के लिए निष्कर्षण प्रक्रियाओं का अनुकूलन करना

3. पर्यावरण विज्ञान

पर्यावरण वैज्ञानिक राउल्ट के नियम का उपयोग करते हैं:

  • जल निकायों से प्रदूषकों के वाष्पीकरण का मॉडल बनाना
  • वाष्पशील कार्बनिक यौगिकों (VOCs) के भाग्य और परिवहन की भविष्यवाणी करना
  • वायु और जल के बीच रसायनों के विभाजन को समझना
  • संदूषित स्थलों के लिए सुधार रणनीतियाँ विकसित करना

4. रासायनिक निर्माण

रासायनिक निर्माण में, राउल्ट का नियम आवश्यक है:

  • तरल मिश्रणों में प्रतिक्रिया प्रणालियों को डिजाइन करना
  • सॉल्वेंट पुनर्प्राप्ति प्रक्रियाओं का अनुकूलन करना
  • क्रिस्टलीकरण संचालन में उत्पाद की शुद्धता की भविष्यवाणी करना
  • निष्कर्षण और लीकिंग प्रक्रियाओं का विकास करना

5. शैक्षणिक अनुसंधान

शोधकर्ता राउल्ट के नियम का उपयोग करते हैं:

  • समाधानों के थर्मोडायनामिक गुणों का अध्ययन करना
  • तरल मिश्रणों में आणविक इंटरैक्शन की जांच करना
  • नई पृथक्करण तकनीकों का विकास करना
  • भौतिक रसायन के मौलिक सिद्धांतों को सिखाना

राउल्ट के नियम के विकल्प

हालांकि राउल्ट का नियम आदर्श समाधानों के लिए एक मौलिक सिद्धांत है, कई विकल्प और संशोधन गैर-आदर्श प्रणालियों के लिए मौजूद हैं:

1. हेनरी का नियम

बहुत पतले समाधानों के लिए, हेनरी का नियम अक्सर अधिक लागू होता है:

Pi=kH×XiP_i = k_H \times X_i

जहाँ:

  • PiP_i सॉल्यूट का आंशिक दबाव है
  • kHk_H हेनरी का स्थिरांक (सॉल्यूट-सॉल्वेंट जोड़ी के लिए विशिष्ट)
  • XiX_i सॉल्यूट का मोल अंश है

हेनरी का नियम तरल में घुले गैसों और बहुत पतले समाधानों के लिए विशेष रूप से उपयोगी है जहाँ सॉल्यूट-सॉल्यूट इंटरैक्शन नगण्य होते हैं।

2. गतिविधि गुणांक मॉडल

गैर-आदर्श समाधानों के लिए, गतिविधि गुणांक (γ\gamma) को भटकावों को ध्यान में रखने के लिए पेश किया जाता है:

Pi=γi×Xi×PiP_i = \gamma_i \times X_i \times P^{\circ}_i

सामान्य गतिविधि गुणांक मॉडल में शामिल हैं:

  • मार्गुल्स समीकरण (द्विआधारी मिश्रणों के लिए)
  • वैन लार समीकरण
  • विल्सन समीकरण
  • NRTL (गैर-यादृच्छिक दो-तरल) मॉडल
  • UNIQUAC (यूनिवर्सल क्वासी-रासायनिक) मॉडल

3. स्थिति समीकरण मॉडल

जटिल मिश्रणों के लिए, विशेष रूप से उच्च दबाव पर, स्थिति समीकरण मॉडल का उपयोग किया जाता है:

  • पेंग-रॉबिन्सन समीकरण
  • सोवे-रेड्लिच-क्वोंग समीकरण
  • SAFT (सांख्यिकीय संघटन तरल सिद्धांत) मॉडल

ये मॉडल तरल व्यवहार का अधिक व्यापक वर्णन प्रदान करते हैं लेकिन अधिक पैरामीटर और गणनात्मक संसाधनों की आवश्यकता होती है।

राउल्ट के नियम का इतिहास

राउल्ट का नियम फ्रांसीसी रसायनज्ञ फ्रैंकोइस-मैरी राउल्ट (1830-1901) के नाम पर रखा गया है, जिन्होंने 1887 में वाष्प दबाव अवसादन पर अपने निष्कर्ष प्रकाशित किए। राउल्ट ग्रेनोबल विश्वविद्यालय में रसायन विज्ञान के प्रोफेसर थे, जहाँ उन्होंने समाधानों के भौतिक गुणों पर व्यापक शोध किया।

फ्रैंकोइस-मैरी राउल्ट के योगदान

राउल्ट का प्रयोगात्मक कार्य गैर-वाष्पशील सॉल्यूट वाले समाधानों के वाष्प दबाव को मापने में शामिल था। सावधानीपूर्वक प्रयोग के माध्यम से, उन्होंने देखा कि वाष्प दबाव का सापेक्ष कमी सॉल्यूट के मोल अंश के अनुपात में होती है। इस अवलोकन ने राउल्ट के नियम के रूप में जो हम अब जानते हैं, के निर्माण की ओर अग्रसर किया।

उनका शोध कई पत्रों में प्रकाशित हुआ, जिसमें सबसे महत्वपूर्ण "ल

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